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首发：~第31章 纳米的技术！千万不要再说了！万一泄露出去了！
“你给我说说，你做的光刻机原理。”
“还有你要做多少纳米的？”
“技术难点在哪？”
“你怎么攻克？”
刘志文问出了这几句话，大口喘着气。
陆峰有点搞不清楚状况。
眼前的这个老爷子，自己就是说了一句签保密协议。
这玩意不是自己定的啊。
怎么看起来似乎有些发生脾气的样子。
不过陆峰也不会跟这老爷子计较。
想了想。
对着话筒说道：
“是这样的。”
“我们现在的科技水平，要制造14纳米以下的芯片。”
“需要非常高的分辨率。”
“要用到极紫外也就是euv的光刻技术。”
“euv技术本身就是一项技术挑战，因为要使用非常短波长的光源，以实现更小尺寸的特征。”
刘志文听到这里。
暗自笑了一声，这就是照本宣科。
谁在网上一搜就知道。
于是反问道：
“那你说说，你准备做多少纳米的芯片？”
陆峰神色严肃的说道：
“我接下来要做的芯片是5纳米！”
“什么？”刘志文眼睛瞪大，朝前猛走了两步。
“5纳米！”
“你真的是癞蛤蟆打哈欠，你好大的口气！”
“你来给我说说，你的5纳米准备怎么做？”
陆峰不急不缓的说道：
“目前来说5纳米的技术瓶颈还是在于光源。”
“也就是euv。”
“我准备从以下六个方面开始着手。”
“第一步：大家都知道euv的波长更短，因此可以实现更小尺寸的特征。”
“所以要从高亮度，稳定性极好的euv着手。”
陆峰说出第一步的时候。
刘志文已经开始不由自主的微微点头。
这小子看起来年纪不大。
似乎还是学到了一些东西的。
跟那些用砂纸打磨芯片的人不同。
有一些本事在身上。
却听陆峰继续说道：
“第二步：光源强度：制造3纳米级别的芯片需要更高的光源强度。”
“以确保足够的光能量投射到感光硅片上，以实现高分辨率。”
“这意味着euv光源必须能够持续提供足够的强度，同时保持光束的稳定性。”
这时候刘志文的眼睛已经瞪的像铜铃了。
而陆峰的说话还没有结束。
“第三步：光源稳定性……”
“第四步：光学系统与光源的耦合……”
“第五步……”
“不要说了！停下！停下！”
刘志文忽然大声的吼了起来。
整个大厅里面的其他院士都听得津津有味。
一听刘志文大叫。
都朝他看去。
只见刘志文一副捶胸顿足的模样。
痛心疾首的喊道：
“别说了！！”
“这里的人都还没签保密协议呢！”
“千万不要流传出去了！！！！”
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