第二百二十二章 夸张的智云(1/1)

首发：~第二百二十二章 夸张的智云

也就是海湾科技了，不然都别指望干成这事……为什么海湾科技可以？因为海湾科技的研发人员人均顶着一个d级科研名额，随便小组长级别的技术骨干都顶着c级科研名额，项目核心基本都是b级科研名额，几个带头技术大佬更是轮流使用a级科研名额。

一个个脑袋瓜子好用的很！

所以才能用这么一大堆破烂搞出来了堪用的krf光刻机，如今又朝着duv干式光刻机发起冲击！

在先进设备领域里，因为工业基础差，原料差，工艺差，零配件，最后导致搞起来先进设备就是这么的尴尬。

但是！！！

就是这么一堆破烂玩意，放眼当下全球除了华夏，不可能有第二个国家能够在自己家里全部搜集全。

美国自己都不行！

进入duv光刻机时期后，光源也好，乃至整个光刻机项目也好，其实已经变成了欧美日韩的广泛国际合作项目，已经没有任何一个欧美日韩国家，能够自行完成所有零部件的生产了。

但是华夏无法从国外进口这些关键零部件，所以只能直接折腾！

这有点类似空间站，别人不带华夏玩，只能自己埋头折腾自己玩。

所以，别看这是一堆破烂，但也是非常宝贵的破烂，汇集华夏过去几十年发展，无数人努力才积攒起来的破烂。

其他国家想要还没有呢……比如俄罗斯，他们努力了半个世纪，进入24年在战争的强烈刺激下，才勉强搞定了350纳米的芯片生产工艺！

而海湾科技搞这玩意，只用了半年不到！

因为海湾科技，是站在巨人的肩膀上，随便一蹦跶，就搞定了。

只是进入到duv光刻机领域后，技术难度又向前迈进了一大步，看似只是一步，然而实际到工业领域里却是彷佛一道天堑，想要跨过去不是那么容易的。

这个时候，海湾科技已经无法得到大量成熟可用的材料以及设备了。

这个时候怎么办？

还能怎么办，在一群破烂里挑挑拣拣，然后再埋头自己开发一些材料，搞一些新设备，新工艺，然后看看能不能勉强凑一个出来。

而就是这么一个看似攒破烂的过程，光靠海湾科技一家也很难做到，哪怕是加上整个仙女山控股体系也很难。

这也是前些时候徐申学听闻duv干式光刻机做起来磕磕绊绊，而浸润式光刻机更是连个头绪都还没有的时候，最终下决心去京城汇报工作的原因。

他求援去了！

最终，他做了一场长达一个多小时的专题报告，当时他还带上了一台机器狗以及一台无人机，一起去的还有一台看似不起眼的小主机里运行，智能研究院研发出来的新ai的系统。

进行了一场小规模的无人设备的演示。

最后获得了他想要的支援：一批研究所、高校以及部分相关企业，将会以产研合作，企业合作等方式参与这一大项目：集中力量攻关先进半导体制程！

初步目标是六十五纳米工艺，然后是突破四十五纳米工艺……也就是做到duv浸润式光刻机的水准。

并对euv光刻机进行前期理论，材料等领域的提前研究。

而智云微电子以及海湾科技，作为牵头企业将会主导整个项目。

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半导体领域的发展，是一个长期过程，虽然徐申学做了不少的努力，也投入了巨大的资源，但是一时半会的也看不到成果，一切顺利都得夏天的时候才能够看见第一台duv干式光刻机的样机呢。

而对此，徐申学保持着期待以及耐心。

反正现在外部环境也还算可以，虽然问题多多，但是依旧没到太严重的地步。

抛开大环境影响，智云科技本身也在积极处理各种问题，在国外也舍得花钱进行各种公关，因此虽然已经有了一些声音，要对智云科技进行制裁啊，封锁之类的，但是目前还算可控。

智云科技还有一些时间来进行调整，并继续积攒实力。

这也是智云科技旗下的智云微电子，年初的时候一口气开建五座十二寸晶圆厂，并下达了大量各种芯片生产线订单的缘故！

晶圆厂建设需要时间，设备到货也需要时间……而留给智云科技的时间在徐申学看来已经不多了！

所以动作必须快一些，提前囤积一大批的先进duv浸润式光刻机以及其他一系列的半导体设备。

这样真等到几年后迎来了片面的制裁，也不用太担心，可以通过一些手段来解决芯片问题。

以上这些是设备，徐申学在诸多耗材领域也保持了极大的关注。

半导体生产线可不仅仅是设备问题，实际上各类耗材，比如光刻胶，特种气体也是非常重要的，而这些方面的国产化也无限接近于零。

仙女山控股旗下的不少子公司，都是从事这些半导体耗材领域的研究……

旗下从事光刻胶研发的华赛电子，光刻胶领域里进展还算可以，负胶基本没问题，高分辨率的g线、i线光刻胶之前也已经陆续解决。

更高分辨率，用于深紫外线光刻，在248纳米波长，也就是krf光刻机上使用的光刻胶已经进行小规模的测试，智云微电子那边是一边测试一边用，但是问题比较多，目前还处于继续改进当中，并没有大规模直接使用。

乃是勉勉强强也可以说，华赛电子已经搞定了芯片生产里130纳米工艺节点的光刻机的技术问题，只要有需求的话，那么扛着高成本也一样能够供应智云微电子或者国内其他芯片厂家使用。

同时更先进的193纳米光源波长的光刻机，也就是用于duv干式光刻机乃至现在最先进的duv浸润式光刻机上的使用的光刻胶面临的问题要更大一些。

徐申学看过仙女山控股转发的一些报告，说是什么现有的光刻胶材料里含有苯环结构，导致193纳米波长的光源吸收太高而无法使用！

这意味着需要重新开发一种光刻胶材料，至于什么时候才能搞出来，这种材料学的问题都是玄学问题，华赛电子也给不了一个准确的时间表！

他们能够做的就是尽可能的展开更多的研发，同时试验更多不同的材料组合，然后才能够搞出来。

各种特种气体的情况也和光刻胶比较类似，低制程工艺里的特种气体基本都能自行解决，但是用于更高工艺制程的就有些欠缺了。