第413章 万兴刚想出改进的办法。(1/2)

首发：~第413章 万兴刚想出改进的办法。

阉割版的出口光刻机，全部采用石英透镜。

石英有良好的光学性能，化学性能也很稳定，光科技运转的时候，能保证紫外光传输稳定。。 石英透镜技术，早在五十年代就出现了。

鉴于制造技术，石英透镜多为球形或圆柱形，加工简单，能保证加工精度。 实践中。

也有人把石英透镜制造成非球面形状。 用在一些精度需求不高的地方。

光刻机精度要求高。

只有球面和柱形石英透镜才能满足精度要求。

石英透镜技术从五十年代出现， 一直用到七十年代，中间有多次改良，改良幅度都不大。 仍然是以球面和柱状为主。

石英透镜制造简单，缺点也“零六零”十分明显。 首先。

使用石英透镜，容易引起球差、慧差和像散等光学问题，这些问题会造成成像失真，影响光刻机性能。 限制了芯片精度。

同时。

因为石英透镜是球面状的，或者是柱状的，造成焦点深度相对较浅。

焦点深度和清晰成像范围成正比，焦点深度越浅，精细成像范围越小，限制了光刻机的性能。 其次。

石英透镜工艺局限和设计局限，限制了它的最小加工精度。 是用石英透镜，最小精度都是微米级。

除非有革命性的加工工艺进化，或者换一种材质的透镜。 否则。

加工精度突破不了微米。

第三就是加工精度限制。

石英透镜表面是圆形的，或者是援助型的，看起来很圆滑。 实际从微观角度观察，很难做到标准的圆。

肉眼看不出来，因为肉眼的精度有限，可一旦用在光刻机上，精度到微米级别，影响就很大。 会导致成像不稳定，导致光学畸形。

出口的阉割版光刻机，用的都是石英透镜，因为成像不稳定和光学畸形，废品率就会很高。 废品率高。

成本分摊到成品上。

造成芯片的成本普遍偏高。

第三是石英的光学折射率相对较高。

折射率高，就会产生折射效应和衍射效应，会造成成像模糊，在一定程度上影响精度。 即使是这样。

对其他国家来说。

龙国出口的光刻机已经是非常先进，精度非常高，是他们短时间内难以企及的，不得不进口。 要是有自我研发能力还好。

要是没有自我研发能力， 一直以来进口，就会严重限制他们的工业发展，发展速度严重落后。 龙国自己用的第一代光刻机，用的也是石英透镜，但加工技术不一样。

用的是抛物面透镜技术。

通过非球面镜改善相差，相比球面镜，柱镜片，抛物面透镜有更高的精度。

抛雾面透镜技术，相比球面透镜技术，复杂很多，加工难度高很多，加工成本也跟着上升。

导致抛物面透镜比球面透镜贵很多。 同时。

抛物面透镜也不完美。

非球面，光线在进入透镜的时候，折射角度会有所变化，会导致曝光区域的光强度分布不均。

导致图案畸形，或者不完全曝光。 这些都会影响光刻机的精度。

比抛物镜技术更先进的技术是布拉格透镜技术，能制造出一种有周期性变化折射率的光学元件。

这种技术出现在八九十年代。 制造技术更复杂。

成本更高。

万兴邦没有采用布拉格透镜技术，而是采用了更先进的非球面透镜技术。

万兴邦穿越之前，在繁华年代，最先进的光刻机使用的透镜，用的技术就是非球面透镜技术。 相比传统透镜。

非球面透镜技术优点很多，全方位超越传统透镜。

第二代光刻机的技术，不仅在六十年代是领先的，就算再过五六十年，很多技术也不过时。 同时。

第二代光刻机采用了接触式近场光刻技术。

而第一代光刻机，包括出口的阉割版，用的都是远场光刻技术。

远场光刻技术缺点非常明显。 首先受光的衍射限制。

应用远场光刻技术的光刻机，精度根本达不到纳米级别，造成传统光刻机无法应用在纳米领域。 也处理不了特征尺寸非常小或非常大的图案

罪魁祸首就是光的衍射!

在加工特征尺寸非常小的图案的时候，由于光的衍射效应，造成分辨率有限，无法准确复制小尺寸结构。

加工特征尺寸非常大的图案的时候，又因为投影范围有限，无法覆盖足够大面积，也无法准确复制大尺寸结构。 其次是成本高。